塑料（塑封树脂） | 125－160度在发烟硝酸中腐蚀3-5分钟，再用丙酮超声清洗。 |
SiO2 | 在HF酸中腐蚀约1分钟去除0.5µm. |
Si3N4 | 用磷酸腐蚀，或用氟化铵与冰醋酸各一份的混合液腐蚀。 |
金属化铝层 | 用硝酸5%，磷酸80%，醋酸5%，在110-170度腐蚀1分钟，不影响氧化层或用85%磷酸加热到70-80度。 |
铝-硅合金 | 6：1的HNO3：HF或10-20%的NaOH溶液加热煮沸。 |
镍-铬合金 | 用1.5克硫酸高铈，12ml HNO3, 10 ml H2O腐蚀. |
玻璃钝化层/铝 | 低温等离子刻蚀. |
铝或镍-铬/硅 | 低温等离子刻蚀. |
芯片上涂有黑胶 | 将芯片泡在冷浓硫酸中(<25 OC)。 交流微信a360843328 |
赵工
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