一、工艺原理
键合工艺:用导线将半导体芯片上的电极经过键合设备通过施加压力机械振动、电能或热能等不同能量于接头处,形成连接接头的一种方法与外部引脚相连接的工艺,即完成芯片与封装外引脚间的电流通路。
二、键合材料
键合丝分为四种:铝线、合金丝、键合金线、键合铜线
键合金线:金丝纯度为99.99%,掺入(5~10)*0.001‰铍(Be)或者(30~100)*0.001‰(Cu);
键合铝线:加入1%的硅(Si)或者1%的镁(Mg)键合铜丝:焊接时需加保护性气体,防止氧化为改善键合铜丝性能,相关生产单位可以利用碱土元素作为脱氧剂,常用的元素主要包括 Sr、Ca、Mg 以及 Be。
合金丝:金铝丝、金铜丝
三、金丝键合过程
楔焊具有能达45m 细间距的键合能力,焊点处引线直径变形可低至20%~30%线径,因没有金球及形成金球产生的热影响区,楔焊金丝弧度可低至50pm,寄生效应相对较小,非常适用于微波电路的射频互连,但金丝楔焊具有方向性,楔焊速度慢,且对键合界面要求更高。微波多芯片模块采用自动金丝楔焊可精确控制拱形,确保互连金丝拱形一致性和键合质量,能显著提高微波多芯片产品的性能
不同键合材料在金丝键合时所需要设置的超声功率参数存在差异。在产品生产过程中,根据实际生产验证情况对超声功率参数进行调整.
推荐参数如下:
超声功率 150~350LSB
超声时间 85~95ms
超声压力 16~24g
四、键合步骤
(1)将需要键合的模块先放在压焊底座上预热2~3分钟,再放入键合平面,并固定;
(2)调节好工作台的高度,保证被压件表面与劈刀端面平行接触,同时机器能在所要求的行程内工作;
(3)调节好键合台上显微镜的放大倍数和焦距,至清晰为止;
(4)移动操作手柄,将第一焊点精确地移动到劈刀正下方,缓慢降低焊头,使其落到第一个焊点上;
(5)移动操作手柄使焊头升起到一定高度,再次移动操作手柄,将第二个焊点精确地移动到劈刀正下面,缓慢降低焊头,使其落到第二个焊点上;
(6)焊接完成后焊头自动上升到复位位置;
(7)观察焊点外观判断参数设置是否得当,若形变或拉力不符合标准则可对参数进行适当调整,直到符合标准为止。若调整参数无法使其符合标准,则需通知工艺人员进行分析,找到问题并修正后再实施压焊;
(8)键合完成后,将产品使用镊子轻轻取下,放置在冷却台上冷却;
(9)关闭设备相关电源;
五、判断标准
在显微镜下检查,主要检测内容和技术要求如下:
(1)所有的键合点应牢固、无虚焊、无短路、不允许有不符合键合图纸要求的、遗漏的、额外的金丝;
(2)金丝键合点上不允许用导电胶加固,检查无多余物残留;
(3)金丝高度、弧度基本一致,自然弯曲成拱形;
(4)尾丝长度不能超过引线直径的2倍;
(5)金丝交叉时,金丝间距至少是金丝直径的2倍;
(6)焊点形状要求,长:1.5D≤L≤6D,宽:2D≤L≤3D,如示意图所示。
来源于集成电路与微系统封装,作者

赵工
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