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扩晶工艺流程

一、概述

在封装工艺中在装架工艺前要进行扩晶,扩晶质量的好坏直接会影响手工装架的质量,进而影响良品合格率。

二、目的

为方便手动装架工艺的操作,需将芯片进行一些额外的准备工作,使芯片与芯片之间的距离扩大,这便成为扩晶。

扩晶也成为绷片,利用白膜或蓝膜在扩晶产生的张力带动芯片运动,将芯片的距离变大,适合芯片操作。

    图一:扩晶前的芯片               图二:扩晶前的芯片

  扩晶工艺一般体现在手动封装过程中,在自动设备封装工艺过程中,自动固晶机识别度比较高,基本可以不进行这一操作。

三、扩晶设备


   图四: 手动扩晶机

四、扩晶工艺过程

  手动扩晶需要气路,气压一般在0.6MPa左右,一般还需要温度进行辅助。工作温度大概在55℃左右。提前准备物料,包括待扩晶的晶圆、扩晶环。待扩晶机温度达到工作温度后,打开扩晶压圈,将内环放在平台上,在离子风机前将芯片与蓝膜分离,将撕开的蓝膜的芯片朝上放置,放下压圈。慢慢按“上升”按钮,将芯片扩至所需间隔,再套上外扩晶环后按“下压”按钮,等内外环完全吻合后松开,取下芯片,按“下降”按钮,松开压圈,取出多余蓝膜即可。

五、注意事项

1)做好静电防护工作。

2)扩晶的芯片不宜过大,面积太大对边缘芯片会产生损耗。

3)芯片扩晶距离要求,扩晶前芯片距离为:200-250um,扩晶后芯片距离为:800-1000um,通常扩晶后的芯片与芯片之间的距离d是芯片大小的0.5-2.5倍。

4)放置内扩晶环需将光滑的边朝上。

5)芯片保护膜与芯片分离过程中,动作需缓慢,为方便离子风机更好的消除静电。

6)注意安全操作:加热平台温度较高,需注意防止烫伤。

来源于集成电路与微系统封装,作者岳小柒

赵工

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